パターン成膜（フォトリソ工程）
フォトリソ工程（レジスト/リフトオフ）と蒸着技術を併用し、パターンを有するフィルターを高性能に製作可能。 ①作業環境/保有設備 様々な成膜技術と組み合わせて高精度なパターンフィルター/ミラーを製作します。 …
金属スパッタ膜
成膜可能な基板サイズ、ターゲット、特徴 ＜最大ワーク寸法＞ W160×L325×H110(mm) ※Al+SiOx膜における最大有効エリアです。 ＜ワーク材質＞ ワークへの熱ダメージが極めて少ないため、PC、PET、PB…
フォトリソ工程（レジスト/リフトオフ）と蒸着技術を併用し、パターンを有するフィルターを高性能に製作可能。 ①作業環境/保有設備 様々な成膜技術と組み合わせて高精度なパターンフィルター/ミラーを製作します。 …
成膜可能な基板サイズ、ターゲット、特徴 ＜最大ワーク寸法＞ W160×L325×H110(mm) ※Al+SiOx膜における最大有効エリアです。 ＜ワーク材質＞ ワークへの熱ダメージが極めて少ないため、PC、PET、PB…
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