パターン成膜
（フォトリソ工程）
フォトリソ工程（レジスト/リフトオフ）と蒸着技術を併用し、パターンを有するフィルターを高性能に製作可能。
①作業環境/保有設備
様々な成膜技術と組み合わせて高精度なパターンフィルター/ミラーを製作します。
スーパークリーンルーム ISOクラス1
【工程流れ】＊設備紹介
最大対応サイズ：Φ6in / 最大基板厚さ：25mm（プリズム対応可能）
②パターン精度（ダイクロ膜 L/S）
L/S=最大1μmの精度まで可能。
③境界線精度（滲み）
メタルマスクとの比較（弊社比較）
④パターン例
1)ダイクロ/遮光膜
2)ARMC/遮光膜
3)ミラー膜/吸収膜/ARMC
